簡(jiǎn)要描述：Heidolph 海道夫加熱型磁力攪拌器MR Hei-End可根據(jù)需要選擇不同形狀和大小的攪拌盤(pán) 操作方面，數(shù)字顯示，帶背景燈 800W的加熱能力，快速加熱 轉(zhuǎn)速Z大可達(dá)到14，000rpm 強(qiáng)大磁力，輕松驅(qū)動(dòng)攪拌子 Z多可攪拌20L水 免維護(hù)的發(fā)動(dòng)機(jī)，啟動(dòng)順暢 溫度調(diào)節(jié)精度可至1℃ 高效率驅(qū)動(dòng)，低效率消耗 包裹防腐蝕材料的硅合金機(jī)身，持久耐用
產(chǎn)品型號(hào)：MR Hei-End廠商性質(zhì)：代理商更新時(shí)間：2025-02-21訪 問(wèn) 量：1212Heidolph 海道夫加熱型磁力攪拌器MR Hei-End
加熱型磁力攪拌器MR Hei-End
高安全性能
• 800Ｗ加熱功率 （600 W 于 115/100 V）
•加熱盤(pán): 陶瓷涂層的硅鋁合金
•優(yōu)秀的熱傳導(dǎo)效率和分配性能
•優(yōu)秀的防刮花和抗化學(xué)腐蝕性能
•加熱盤(pán)直徑: 145 mm
•通過(guò)兩個(gè)獨(dú)立的溫度探頭, 提供額外的安全控制和加熱盤(pán)斷電功能
•預(yù)設(shè)溫差△T, 當(dāng)溫度偏離控制溫度達(dá)到預(yù)設(shè)定的溫度差時(shí)
•獨(dú)立線路開(kāi)關(guān)自動(dòng)停止加熱
•避免錯(cuò)誤的溫度設(shè)定
Heidolph 海道夫加熱型磁力攪拌器MR Hei-End
•速度范圍: 30 - 1,400 rpm
•出眾的溫度控制精度: ±1 %
•數(shù)字顯示速度和溫度（包括設(shè)定值和實(shí)際值）
•加熱盤(pán)溫度范圍: 20 - 300 °C
•介質(zhì)溫度范圍:zui高 250
•精確溫度設(shè)定：±1K
•當(dāng)停止加熱時(shí), 加熱盤(pán)溫度仍高到50°C, 顯示屏上顯示加熱盤(pán)的殘留熱量
•照明開(kāi)關(guān)
•三端雙向可控硅開(kāi)關(guān)元件, 確保產(chǎn)品的使用壽命
•電子轉(zhuǎn)速限制, 保護(hù)發(fā)動(dòng)機(jī)
•加強(qiáng)型大功率攪拌磁力發(fā)動(dòng)機(jī), 驅(qū)動(dòng)攪拌子輕而易舉
•優(yōu)秀的攪拌性能，處理量zui大達(dá) 20升（ H2O）
加熱型磁力攪拌器MR Tec/Tec
適用于更高實(shí)驗(yàn)要求
MR Hei-Tec
•800 W加熱功率 （600 W 于 115/100 V）
•數(shù)字顯示設(shè)定溫度和實(shí)際溫度
•加熱盤(pán)溫度范圍: 20 – 300°C
•介質(zhì)溫度范圍: zui高達(dá) 250°C
•速度范圍: 100 - 1,400 rpm
•速度控制精度:±2 %
•通過(guò)兩個(gè)獨(dú)立的溫度探頭, 提供額外的安全控制和加熱盤(pán)斷電功能
•當(dāng)溫度偏離控制溫度達(dá)50°C時(shí)，獨(dú)立線路開(kāi)關(guān)自動(dòng)停止加熱
•照明開(kāi)關(guān)
•電子溫度控制
（選配 EKT Hei-Con）
•精確溫度設(shè)定: ±1K
（選配 EKT Hei-Con）
•介質(zhì)溫度控制精度: ±1K
（選配 EKT Hei-Con）
•三端雙向可控硅開(kāi)關(guān)元件, 確保產(chǎn)品的使用壽命
•電子轉(zhuǎn)速限制, 保護(hù)發(fā)動(dòng)機(jī)
•加強(qiáng)型大功率攪拌磁力發(fā)動(dòng)機(jī), 驅(qū)動(dòng)攪拌子輕而易舉
•優(yōu)秀的攪拌性能，處理量zui大達(dá) 20升（ H2O）
MR Hei-Tec
•加熱盤(pán): 陶瓷涂層的硅鋁合金
- 優(yōu)秀的熱傳導(dǎo)效率和分配性能
- 優(yōu)秀的防刮花和抗化學(xué)腐蝕性能
•加熱盤(pán)直徑: 145 mm
MR Hei-Tec [ ]
•與 MR Hei-Tec 參數(shù)*
•正方形加熱盤(pán)
•加熱盤(pán)由瓷釉涂層硅鋁合金制備而成
•加熱盤(pán)尺寸 w x d （mm）: 132 x 132
加熱型磁力攪拌器MR Standard
適用于任何實(shí)驗(yàn)室的標(biāo)準(zhǔn)攪拌器
MR Hei-Standard
• 800 W 加熱功率 （600 W 于 115/100 V）
•加熱盤(pán)溫度范圍: 20 – 300°C
•介質(zhì)溫度范圍: zui高達(dá) 250°C
•速度范圍: 100 - 1,400 rpm
•速度控制精度:±2 %
•加熱盤(pán): 陶瓷涂層的硅鋁合金
- 優(yōu)秀的熱傳導(dǎo)效率和分配性能
- 優(yōu)秀的防刮花和抗化學(xué)腐蝕性能
•加熱盤(pán)直徑: 145 mm
•通過(guò)兩個(gè)獨(dú)立的溫度探頭, 提供額外的安全控制和加熱盤(pán)斷電功能
•當(dāng)溫度偏離控制溫度達(dá)50°C時(shí)，獨(dú)立線路開(kāi)關(guān)自動(dòng)停止加熱
•電子溫度控制
（選配 EKT Hei-Con）
•精確溫度設(shè)定: ±1K
（選配 EKT Hei-Con）
•介質(zhì)溫度控制精度: ±1K
（選配 EKT Hei-Con）
•三端雙向可控硅開(kāi)關(guān)元件, 確保產(chǎn)品的使用壽命
•電子轉(zhuǎn)速限制, 保護(hù)發(fā)動(dòng)機(jī)
•加強(qiáng)型大功率攪拌磁力發(fā)動(dòng)機(jī), 驅(qū)動(dòng)攪拌子輕而易舉
•優(yōu)秀的攪拌性能，處理量zui大達(dá) 20升（ H2O）
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